Produktbeschreibung

Graphitplatte bearbeitet sich wichtige Träger in industriellen Anwendungen. Mit ihren einzigartigen Eigenschaften sind sie unersetzliche Komponenten im industriellen Bereich geworden.

Im Bereich der Hochtemperaturherstellung sind Graphitplatten aufgrund ihres hohen Temperaturwiderstands (Hochtemperaturwiderstand bis zu 2800 Grad) und niedriger thermischer Expansionskoeffizient zu den Kerndämmträgern von Einkristall-Silizium-Wachstumsöfen und Vakuumsinteröfen geworden.

Unter ihnen sorgt die hohe Temperaturstabilität von Graphitplatten für eine hohe Wachstumsumgebung für Präzisionsmaterialien wie Halbleiterwafer. Darüber hinaus können Graphitplatten kontinuierlichen thermischen Schock unter 1200 Grad standhalten und im Rollensystem der Glühöfen in der Glasbranche verwendet werden.

In der elektrochemischen Industrie machen die hervorragende Leitfähigkeit und Korrosionsbeständigkeit von Graphitplatten die Kernanodenkomponenten in den Elektrolytzellen der Chlor-Alkali-Industrie und können auch in starken Säure- und Alkalikumgebungen eine hohe Elektrolyseeffizienz aufrechterhalten. Beispielsweise unterstützt bipolare Platten von Graphit -Brennstoffzellen und der Vermarktung des Kommerzialisierungsprozesses neuer Energieerzeugungssysteme.

Darüber hinaus verfügen Graphitplatten auch eine hervorragende Selbstschmutzung und Anti-Adhäsionsfunktionen und werden auch in Metallgusskristallisationsauskleidungen häufig verwendet, wodurch die Trennung von Hochtemperaturmolzen während der Verfestigung und Formung eine Nulldefekt-Trennung von Hochtemperaturstahl erreicht wird.

Die bearbeitete Graphitplatte kann mit komplexen Flusskanalstrukturen und ultradünnen Dichtungsflächen gemäß den Kundenbedürfnissen angepasst werden. Seine Anwendung hat Innovationen in der Herstellung von Halbleiter, der neuen Energieentwicklung und anderen Bereichen gefördert.

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